杭州市北京航空航天大学国际创新研究院（北京航空航天大学国际创新学院）2026年9月政府采购意向

标的名称：深反应离子刻蚀系统
数量/单位：1
预算金额（元）：****点击查看000.00

采购目录：A****点击查看2402真空应用设备

需实现的主要功能或者目标：实现大深宽比的垂直沟槽、通孔及腔体结构高精度刻蚀工艺，深宽比不低于20：1，刻蚀速率不低于3 μm/min，适配8英寸标准硅晶圆及碎片样品。

需满足的质量、服务、安全、时限等要求： 产品须满足国家相关标准与技术参数要求。；供应商应结合现场空间开展针对性布局设计与优化，完成产品供货、安装及调试。； （1）系统需提供完备的报警和安全互锁功能。
（2）当互锁被触发时，系统需处于报警状态，并带有声音提示。在安全级别较高的互锁条件或自动模式下触发互锁后，工艺需自动终止。互锁功能在手动模式下需同样生效。
（3）工艺异常后需立即终止工艺，关闭射频电源，关闭全部气路阀门，隔离腔室。
（4）当紧急情况发生时，可以通过EMO回路紧急停止设备，减少人员设备伤害。； 合同签订之日起3个月内完**装。。