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| 内大电院刘增采购磁控溅射系统设备 | 项目编号****点击查看 | |
| 2025-09-10 16:54:24 | 公告截止日期2025-09-15 17:00:00 | |
| ****点击查看 | 付款方式货到验收合格后付款 | |
| 联系电话 | ||
| 到货时间要求 | 签订合同后3个工作日内 | |
| ￥485000.00 | ||
| **自治区**市**区锡林郭勒南路9号****点击查看南校区****点击查看学院 | ||
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 磁控溅射系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 泰龙电子 |
| Sputter-100-2T |
| ￥ 485000.00 |
| 主要指标： 1. 样品基台：直径2 英寸样品 2. 反应腔室：304 不锈钢材质 3. 靶座系统：2 英寸圆形靶座2 个，位于腔室上部 4. 真空系统：分子泵，机械泵 5. 真空测量：工艺规（进口），全量程规（进口） 6. 气路系统：标配2 路进气，种类和流量可定制；管路配件（进口） 7. 电源系统：500W/13.56MHz 自动匹配射频源2 套； 8. 样品载台：自转旋转5-30rpm 可调； 9. 样品控温：室温-750℃加热 10. 真空性能：本底真空优于6.67x10-5Pa 11. 控制系统：工控机；菜单自动/手动操作 12. 安全控制：异常报警 13. 工艺应用：金属薄膜和介质薄膜沉积 14. 不均匀性：≤±5%@2 英寸 15. 设备尺寸：一体型设备；占地面价（参考）1.0m*1.20m。 主要配置要求： 1 射频电源及匹配器1 套自动匹配器，13.56MHz，500W 2 靶材基座2 套2 英寸2 个自主设计、专有技术 3 样品载台1 套旋转且速度可设定，最高加热750℃； 自主设计、专有技术 4 反应室1 套304 不锈钢，镜面抛光自主设计 5 分子泵1 台700l/s 6 机械泵1 台40m3/h 7 控压阀门1 台预设位置压力控制定制 8 角阀1 套气路通断 9 工艺真空1 套工艺真空计 10 真空测量1 套全量程规和大气压力开关 11 质量流量计1 套金属密封、 12 接头及不锈钢管配套进口1/4 英寸VCR 13 气动隔膜阀配套VCR 14 工控机1 台Windows 15 软件控制系统1 套自动控制运行；免费升级自主开发 16 屏幕1 套15＂ 17 设备机架1 套铝型材 运行需求： 1 供电需求：380V、三相五线制；设备总功率需求约为10KW 2 冷却水：＞1.5L/min 3 压缩空气：0.4~0.6Mpa |
| 技术支持:7x8小时;保修期:二年;服务响应时限:报修后2小时;质保期:一年;培训要求:培训一次; |
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