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| 高真空蒸发镀膜系统、磁控溅射镀膜系统 和 热型原子层沉积系统 | 项目编号****点击查看 | |
| 2025-08-25 14:41:22 | 公告截止日期2025-08-28 15:00:00 | |
| ****点击查看 | 付款方式货到验收合格办理相关手续后100%付款。 | |
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| 到货时间要求 | 国内合同签订后15个日历日内 | |
| ￥898000.00 | ||
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| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 磁控溅射镀膜系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 普迪真空 |
| PD-400C |
| ￥ 299000.00 |
| （A） 磁控溅射镀膜系统主要配置包括： 真空室、真空系统、气体控制、溅射靶枪、溅射电源、加热工件台、控制系统组成。 1. 真空室 1.1采用304 不锈钢真空室，尺寸约为 400mm（宽）× 400mm（深）× 380mm（高），内部抛光； 1.2真空室前开门，门上带有一个 100mm 观察窗，观察窗带挡板，防辐射； 1.3底部 3 个法兰，用于安装靶枪及挡板转轴； 2. 真空系统 2.1采用“分子泵+机械泵”真空系统；气动阀门；分子泵抽速：1300L/S，机械泵抽速：9L/S； 2.2真空阀门：型号：DN40mm 挡板阀 2 套；气动主阀 DN200 1 套；可调限流阀 1套； 2.3真空测量：2低1高数显复合真空计一套，含真空规管； 3.气体控制 3.1 3 路进气，流量计最大流量分别为 200/100/20sccm； 4.溅射靶枪 4.1 3个3英寸圆形靶枪，杆状安装，共焦向上溅射； 4.2 靶枪和工件距离 60-120mm 电动可调节； 4.3 每个靶枪带一个独立的电控气动挡板； 5.溅射电源 5.1直流电源500W*1台，射频电源600W*2台； 6.加热工件台 6.1直径 6 英寸工件台； 6.2转速 0-30RPM 可调节； 6.3可放 100*100mm 样品； 6.4样品台加热温度 500℃；导电温控仪控温； 6.5配备气动样品台挡板。 7.控制系统 7.1西门子 PLC+触摸屏手自动控制系统； 7.2控制内容：机械泵，分子泵，气动、电磁阀门、流量计等等；自动抽真空， 自动镀膜（选配）、自动停泵等等； 7.3完整的互锁保护（硬件、软件互锁），在手动和自动模式下，设备处于完整互锁保护下。 |
| 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; |
| 高真空蒸发镀膜系统 | 1 | 套 | 电子工业生产设备 |
| 普迪真空 |
| PD-400S |
| ￥ 299000.00 |
| （A） 高真空蒸发镀膜系统主要配置包括： 高真空蒸发镀膜系统PD-400S 1. 腔体结构：不锈钢腔室，方箱腔体，前后开门，可对接手套箱； 2. 真空系统：进口分子泵+直联旋片泵准无油真空系统； 3. 极限真空：优于5.0×10-5Pa，真空漏率≤10-8Pa.l/s； 4. 基片台尺寸：不变小于150mm*150mm； 5. 抽气时间：真空室从大气到抽到≤5.0×10-4Pa，小于25min（手套箱环境）； 6. 6组蒸发源； 7. 膜厚检测：进口膜厚仪自动镀膜，膜厚检测精度0.1埃。 |
| 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; |
| 热型原子层沉积系统 | 1 | 台 | 电子工业生产设备 |
| 普迪真空 |
| PDALD-T100B |
| ￥ 300000.00 |
| （C） 热型原子层沉积系统 简规：100*100mm，150℃样品台，2路加热源，1路去离子水前驱体源，预留一路待升级 1、100*100mm样品反应腔； 2、反应腔上、下独立加热控温，样品温度可加热到150℃，温度控制精度±0.5℃； 3、沉积腔室内无死区，沉积薄膜颗粒少，0.5um以上颗粒值增加少于50颗； 4、配置2路加热金属前驱体源和1路水前驱体；驱体源配置流量可控的独立载气气路，源和管道前驱体管道可加热到200℃，温度控制精度±0.5℃；Swagelok 快速ALD阀门，响应时间10ms； 5、Inficon薄膜真空计和大气压监测双真空计，实现ALD工艺过程中脉冲压力变化的实时监测； 6、真空泵前配置有残余前驱体源处理热阱，加热温度可达600℃，控制精度±0.5℃； 7、全自动PLC自动控制软件，触摸屏人机操作界面；带有Recipe菜单，日志与数据记录，CDA欠压报警等异常报警与处理，登录权限管理； 8、设备维护简单、方便，一次大保养仅需2小时可完成。 |
| 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年; |
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