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| 采购单位: | ****点击查看 |
| 项目名称: | 教学业务经费（新） |
| 预算金额（元）: | 3,060,000.000 |
| 采购品目: | 其他仪器仪表 |
| 采购需求概况: | 1、贴片固态源扩散炉 1.1 炉管适配晶圆尺寸：6英寸及以下圆片，产量≥25片/批 1.2 炉体及工艺管：炉体内径（三段控制）：≥φ180mm；石英管直径：≥φ150mm；炉体：温度 1250℃～200℃； 1.3 均热区长度及精度：800℃≤工作温度≤1300℃-250mm±0.5℃；工作温度≤800℃-50mm±1℃；升温时间(从室温升至1200℃)-≤90min。 2、快速退火炉 2.1 样片尺寸：6英寸圆片及向下兼容；加热温度范围:室温~1250℃，加热方式:卤素灯管； 2.2 升温速率：≥150℃/s裸晶圆；≥30℃/s碳化硅载盘； 2.3 温度均匀度: ＜500℃，均匀度≤±5℃;≥500℃，均匀度≤±1%，温度控制重复性:±1℃，恒温持续时间:可依据要求编程； 2.4 MFC:2路，氧气、氮气或氩气。 3、等离子增强化学气相沉积 3.1 样片尺寸：6英寸圆片及向下兼容； 3.2 反应腔室：电容耦合等离子体模式；一体化加工腔室,进气方式：喷淋头进气； 3.3 薄膜均匀性±5%； 3.4 真空系统：罗茨泵和机械泵组合，真空测量：薄膜规，反应腔室真空度小于1Pa； 3.5 气路系统：7路进气，SiH4、NH3、N2O、O2、N2、CF4、AR或H2, 数字流量计；VCR 管路配件； 3.6 射频系统：1000W射频功率源，自动匹配； 3.7 温度控制：载片台温度≤400℃，温控精度±1 ℃。 4、磁控溅射台 4.1 样品基台：直径6英寸样品，满足多个小基片同时处理； 4.2 反应腔室：304不锈钢材质，传输腔6061铝一体加工，自动传输； 4.3 靶座系统：3英寸圆形靶座3个，位于腔室下部； 4.4 真空性能：本底真空优于7.6x10-5Pa，真空系统：分子泵，机械泵； 4.5 气路系统：标配2路进气，Ar和N2； 4.6 电源系统：500W/13.56MHz自动匹配射频源1套；500W直流源1套； 4.7 样品载台：自转旋转5-30rpm可调； 4.8 薄膜均匀性±5%。 5、膜厚测量仪 5.1 可测光滑的，半透明的或低吸收系数的电介质与半导体材料薄膜，测厚范围：10nm-75um； 5.2 波长范围: 400nm -1000nm；精度：＜0.01nm 或 0.01%；准确度：＜0.2% 或 1nm；稳定性：<0.02nm或0.03%；光斑大小：≤1mm。 |
| 联系人: | 宋惠雪 |
| 联系电话: | 0775-****点击查看6324 |
| 预计采购时间: | 2025-05 |
| 备注: | 无 |
