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| 原位复合原子层级超晶格沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | |
| 采购单位： | ****点击查看 |
| 采购项目名称： | 原位复合原子层级超晶格沉积系统 |
| 预算金额： | 600.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****点击查看2402真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 拟采购原位复合原子层级超晶格沉积系统集原子层沉积（ALD）、等离子体增强化学气相沉积（PE-CVD）及物理气相沉积（PVD）于一体，以满足亚纳米级（ lt;1 nm）薄膜与超晶格精确制备、三维复杂结构均匀包覆、低维量子材料与器件低温封装、低缺陷高纯度金属功能层与电极沉积等功能。 主要技术需求如下： （1）无需整体腔室卸真空或大范围移动样品即可实现ALD和PVD原位复合薄膜制备 （2）配置最高温度≥400℃的梯度控温样品台 （3）设备预留接口可与手套箱连接，可实现样品在手套箱与腔体之间传样 （4）ALD前驱体源可配置2个气源，带2个单独入口 （5）配备等离子体增强模块, 频率≥2GHz；配合两路前驱体源的协同操控，可实现等离子体增强化学气相沉积（PE-CVD）功能 （6）配置不少于两个磁控溅射源或可升级为电子束蒸镀模块，单穴最大功率200W，可放入坩埚数不少于4个 主要包括如下组成： 复合薄膜沉积腔体 1套 含加热功能样品台 1套 原子层沉积真空控制模块 1套 原子层沉积功能配套真空泵 1套 原子层沉积前驱体源 2套 等离子增强模块 1套 物理气相沉积真空控制模块 1套 物理气相沉积功能配套真空泵 1套 物理气相沉积模块 1套 物理气相沉积控制器 1套 腔体内真空阀门 1套 服务要求： 1年质保 时限要求：到货2026年4月 |
| 预计采购时间： | 2025-06 |
| 备注： | |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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