低应力掩膜等离子体增强钝化设备

低应力掩膜等离子体增强钝化设备

发布于 2025-07-25

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中国科学院上海技术物理研究所
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****点击查看2025年7至12月政府采购意向-低应力掩膜等离子体增强钝化设备 详细情况
低应力掩膜等离子体增强钝化设备
项目所在采购意向: ****点击查看2025年7至12月政府采购意向
采购单位: ****点击查看
采购项目名称: 低应力掩膜等离子体增强钝化设备
预算金额: 320.000000万元(人民币)
采购品目:
A****点击查看1100航天专用工艺设备
采购需求概况 :
1)薄膜沉积温度:>350°C; 2)薄膜应力:<-100MPa(折射率1.50); 3)片内厚度均匀性(6英寸硅晶圆去边 5mm):<+3%;
预计采购时间: 2025-08
备注:

本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。