等离子增强原子层刻蚀设备-南京大学-政府采购意向

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****点击查看拟采购等离子增强原子层刻蚀设备一套，设备需兼容TSV和ALE刻蚀两种功能，精确地刻蚀去除特定材料 。主要参数需求如下：设备由进样室和刻蚀工艺室组成；工艺室配置不低于1300L/s的分子泵，稳定运行转速不低于48000转/min，前级干泵抽速不低于100m3/h；真空系统包括干泵、分子泵、真空计、插板阀、阀门等；进样室和工艺室各配置一个电阻规真空计，分别测量进样室和工艺室前级真空度，工艺腔室配电离规真空计，自动控制切换低真空、高真空测量；设备安装最大样品尺寸不小于直径8英寸并向下兼容，工艺室衬底有加热器加热/制冷功能；主源射频频率13.56MHz，额定功率不低于1500W，带自动匹配器，辅源射频带自动匹配器，射频源配有冷却装置；工艺气体气路不少于8路，由质量流量计控制和快速切换阀门；样品范围内（除边缘5mm以外）均匀性优于±5%；质保期不低于12个月。