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高性能干法刻蚀设备 | |
项目所在采购意向: | |
采购单位: | ****点击查看 |
采购项目名称: | 高性能干法刻蚀设备 |
预算金额: | 300.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****点击查看0204半导体器件参数测量仪 |
采购需求概况 : | 采购名称:高性能干法刻蚀设备 、数量:1台、需实现的功能:1.样品尺寸:兼容6英寸及以下尺寸的晶圆和碎片; 2.反应腔本底真空度≤1E-6mbar,漏率2E-4mbar●l/s; 3.预真空室:配置独立干泵,本底真空≤0.1mbar,漏率≤5E-4mbar●l/s; 4.控温范围-30°C…+250℃,控温精度±1℃; 5.射频源:频率13.56MHz,功率600W,反射功率<5%。 预期年度使用时长、次数:250次共1200h |
预计采购时间: | ****点击查看 |
备注: | 无 |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。