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低损伤磁控溅射设备-厦门大学-政府采购意向

低损伤磁控溅射设备-厦门大学-政府采购意向

采购意向福建 - 厦门 - 思明区

发布于 2024-09-30

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厦门大学

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****点击查看2024年10至12月政府采购意向-低损伤磁控溅射设备详细情况

低损伤磁控溅射设备
项目所在采购意向：
采购单位：	****点击查看
采购项目名称：	低损伤磁控溅射设备
预算金额：	250.000000万元(人民币)
采购品目：	A****点击查看2499其他真空获得及应用设备
采购需求概况：	极限真空：5.0×10-5 Pa (经烘烤除气后)。抽气速度：从大气到5×10-4 Pa (≤45min)。基片尺寸：300*400 mm。总体设备漏率：关机停泵12小时后，真空度优于10 Pa。可用靶材：ITO、Cu、NiO等。靶基距：80-120 mm。镀膜厚度均匀性：片内均匀性：≤±3%；片间均匀性：≤±3%。
预计采购时间：	****点击查看
备注：

本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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