中国科学院化学研究所
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磁控溅射设备 | |
项目所在采购意向: | |
采购单位: | ****点击查看 |
采购项目名称: | 磁控溅射设备 |
预算金额: | 200.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****点击查看0699其他试验仪器及装置 |
采购需求概况 : | 主要包括控制单元、分子泵、机械泵、真空蒸镀腔体等单元,真空度能够达到10-6Pa以下,磁控阴极能够10 W持续放电,投入最大电力10 W/cm2。具有低速率溅射控制模式,能够性能均匀薄膜。基板加热温度达300℃。 |
预计采购时间: | ****点击查看 |
备注: |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。