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低温等离子体介质沉积系统 | |
项目所在采购意向: | |
采购单位: | ****点击查看 |
采购项目名称: | 低温等离子体介质沉积系统 |
预算金额: | 480.000000万元(人民币) |
采购品目: | A****点击查看0300 电子工业生产设备 |
采购需求概况 : | 生长速度≥8 nm/min,生长温度≤100℃,生长薄膜应力≤300 Mpa,薄膜均匀度(薄膜差异±5%),标配8路:SiH4、NH3、N2O、N2、O2、CF4、Ar、He流量可调,真空计(100mTorr),分子泵抽速≥1300L/s,抽真空 30 分钟以内,压力达到 lt; 1E-5 mbar,本底真空: lt; 1E-6 mbar。 |
预计采购时间: | ****点击查看 |
备注: |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。