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| 磁控离子溅射仪 | 项目编号****点击查看 | |
| 2026-09-15 10:10:24 | 公告截止日期2026-09-21 12:00:00 | |
| ****点击查看 | 付款方式货到验收合格后付100% | |
| 联系电话 | ||
| 到货时间要求 | 签订合同后15个自然日内 | |
| ￥ 175000.00 | ||
| **市****点击查看 | ||
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 磁控离子溅射仪 | 1 | 台 |
| ￥ 175000.00 |
| 1. 溅射组件：采用平面磁控溅射靶头，直流磁控溅射电源作为高压源，工作过程不会对样品造成热损伤； 2. 控制系统：采用32位的ARM芯片作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，控制精度高，可选配膜厚监控组件、样品台加热组件等扩展模块； 3. 操作界面：7英寸彩色触摸屏，中文或本地化语言操作界面，全数字显示： 3.1 可设定：（1）溅射电流；（2）溅射时间/膜厚（选配）；（3）靶材种类；（4）屏幕亮度等参数； 3.2 可显示：（1）溅射电流；（2）溅射剩余时间/当前镀膜厚度（选配）；（3）工作真空度；（4）靶材累计使用时间；（5）设备累计使用时间；（6）分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压；（7）当前使用靶材种类；（8）工作方式等参数。 4. 溅射电流：1-200mA连续可调，最小步长为1mA； 5. 溅射时长：1-9999s连续可调，最小步长为1s; 6. 可用溅射靶材：所有金属、合金靶材均可溅射。系统内置24种靶材的溅射参数，可以一键调用，包括扫描电镜常用的金、铂、钨、铬等靶材和硅、碲等非金属靶材以及ITO、AZO等金属氧化物靶材； 7. 真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸约为φ181（I.D.）×130（H）mm； 8. 最大样品尺寸：直径为φ100mm； 9. 真空系统： a) 高真空泵：涡轮分子泵，抽速为90L/s； b) 低真空泵：旋片式真空泵，抽速为1L/s; c) 真空规管：进口复合规，量程为1E-3Pa到1E5Pa； d) 极限真空：＜5E-3Pa； 10. 工作真空：0.3-2pa（根据靶材不同，工作真空不同）； 11. 工作模式：一键操作，自动完成抽真空、氩气冲洗、预溅射、溅射镀膜、泄气全过程； 12. 样品台 12.1 标配：φ64mm可旋转，转速4-20rpm可调； 12.2 选配：6工位电动倾斜行星旋转样品台，倾斜角度-80°-80°连续可调； 13. 预溅射：具备全自动预溅射挡板，在溅射开始时，先对靶表面进行清洁，此时挡板闭合；开始工作时，挡板自动打开，提供镀膜纯度； 14. 安全保护：具备溅射电流和真空度双重互锁，安全可靠，任一条件触发，系统即可停止工作，防止因为误操作导致设备损坏； 15. 图形化显示：具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能非常方便用户了解系统工作状态； 16. 靶材更换：采用独特的靶材更换结构，无需工具，即可实现快速更换靶材； 17. 信息提示：具备三色状态指示灯，可清晰显示镀膜过程的工作状态，并在镀膜完成时，发出提示音，提醒用户进行下一步操作或更换样品。 18. 膜厚监控组件（选配）: 实时显示并控制镀膜的膜层厚度，设定范围0.1-999.9nm，显示精度0.01nm； 19. 控温组件（选配）：对样品进行加热，提高膜层的结合力，设定范围室温-200℃，稳态控制精度±2℃。 |
| 12个月 |
基本情况
上次中标企业: 武汉****公司
潜在竞争对手: 共
65
个, 其中与甲方合作关系紧密的
0 家
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